講演情報
[8a-P05-5]低濃度CrドープITOエピタキシャル成長膜の作製および特性評価
〇曽我 彩乃1、角 卓実1、中村 敏浩1,2 (1.京大院人環、2.京大ILAS)
キーワード：
透明導電膜、希薄磁性半導体、エピタキシャル成長膜
RFマグネトロンスパッタリング法によりCrドープITOエピタキシャル成⻑膜を作製し、電気・光学・磁気特性を評価した。得られたCrドープITOエピタキシャル成⻑膜は、透明導電膜としての要件を満たす⾼い電気伝導度と透明性に加えて、室温強磁性を⽰すことが確認された。加えて、低濃度CrドープITO薄膜は、Crを添加していないITO薄膜に比べて低い電気抵抗率を示すことがわかった。