[8p-N105-1~8] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

14:45 〜 15:00

[8p-N105-6] ミストCVDを用いた金属酸化物半導体の作製と評価

〇濱田 薫¹、一戸 善弘¹ (1.北科大院工電電)

キーワード：

ミストCVD