講演情報
[8p-N202-17]グレースケール露光を用いたレジストマスターモールドによるNILプロセス
〇永松 周1、前川 永遠1、向 立昕1、李 周姸2、大塚 健祐2、宮尾 宙2、飯田 健二2、雨宮 智宏1 (1.科学大工、2.三井化学)
キーワード：
ナノインプリントリソグラフィ、グレースケール
ARグラスなどに用いる三次元構造を効率的に作製する技術として、ナノインプリントリソグラフィ（NIL）が注目されている。本研究では、NILプロセスに使用する高品質なマスターモールドにかかる時間とコストを低減するため、グレースケール露光を用いてフォトポリマーから直接三次元マスターモールドを作製し、これをナノインプリントプロセスに適用することでガラス基板上に高屈折率レジストを用いた三次元ナノ構造の転写を行った。