講演情報

[8p-N401-1]スパッタリング法によるSi(111)基板上高品質エピタキシャルGe層形成

〇奥田 太一1、大田 晃生2、横川 凌3,4、黒澤 昌志1、坂下 満男1、中塚 理1,5、柴山 茂久1 (1.名大院工、2.福岡大理、3.広大RISE、4.広大院先進理工、5.名大未来研)

キーワード:

ゲルマニウム、スパッタリング法