2025年第86回応用物理学会秋季学術講演会
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14:30 〜 14:45
奨励賞エントリー
[8p-N401-3]
極薄酸化膜ナノチャネルを用いたスパッタエピタキシーによるSi基板上GeSn薄膜の成長
〇石丸 賢昇
1
、原 征大
1
、小林 拓真
1
、志村 考功
1,2
、渡部 平司
1
(1.阪大院工、2.早大IPS)
キーワード:
GeSn単結晶薄膜、スパッタエピタキシー、フォトルミネッセンス
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