[8p-P09-1~6] 6.1 強誘電体薄膜

[8p-P09-6] ミストCVD法による銅薄膜形成 : 構造制御と表面平坦化

〇(M2)岡田 達樹¹、大橋 亮介¹、水本 圭¹、Htet Su WAI¹、Mondal Abhay Kumar¹、川原村 敏幸^1,2 (1.高知工科大学、2.総研)

キーワード：

Cu、ミストCVD