セッション詳細

[8p-P09-1~6]6.1 強誘電体薄膜

2025年9月8日(月) 16:00 〜 18:00
P09 (体育館)

[8p-P09-1]Smドープ量がBiFeO3薄膜の局所原子構造に及ぼす影響Ⅱ

〇(M2)川上 真梨花1、中嶋 誠二1、岡﨑 海馬1、木村 耕治2、八方 直久3、麻生 亮太郎4、田尻 寛男5、大坂 藍1、林 好一2、藤沢 浩訓1 (1.兵庫県大工、2.名工大工、3.広島市大情報、4.九州大工、5.高輝度光科学研究センター)

[8p-P09-2]Ca, 4d・5d遷移金属元素共置換BiFeO3の薄膜成長

〇(M1)永野 翔也1、畑山 華野1、中山 創1、Lee Koomok1、重松 圭1,2、東 正樹1,2 (1.東京科学大総合研究院、2.神奈川産技総研)

[8p-P09-3]チタン石型Ca(Ti,Mn)SiO5薄膜の作製と評価

〇梶原 輝1、倉橋 哲史1、Yang Weirong1、濵嵜 容丞2、桑野 太郎1、谷口 博基3、小林 能直1、安井 伸太郎1 (1.Science Tokyo、2.防衛大、3.名大)

[8p-P09-4]HfO2/ZrO2ナノラミネート薄膜の微構造解析

〇(M1)河村 龍1、佐藤 幸生1 (1.熊大半)

[8p-P09-5]Si基板上へのAl0.7Sc0.3N薄膜のエピタキシャル成長に向けた製膜条件の検討

〇青木 悠佑1、安岡 功樹1、山田 洋人1、藤村 紀文1、吉村 武1 (1.阪公大工)

[8p-P09-6]ミストCVD法による銅薄膜形成 : 構造制御と表面平坦化

〇(M2)岡田 達樹1、大橋 亮介1、水本 圭1、Htet Su WAI1、Mondal Abhay Kumar1、川原村 敏幸1,2 (1.高知工科大学、2.総研)