[8p-P10-1~49] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[8p-P10-37] 固相結晶化 ZnON シード層を用いたガラス基板上への低抵抗 ZnO:Al 膜の作製：as-deposited シード層の結晶化度の影響

〇和田 義晴¹、謝 文叡¹、山下 尚人¹、奥村 賢直¹、鎌滝 晋礼¹、古閑 一憲¹、白谷 正治¹ (1.九大シス情)

キーワード：

透明導電膜、ZnO、スパッタリング