講演情報
[8p-P10-7]Mist CVD法を用いたIn2O3薄膜成長における純水ミスト混合の効果
〇石川 治樹1、山口 智広1、石川 諒1、飯塚 太郎1、相川 慎也1、尾沼 猛儀1、本田 徹1 (1.工学院大学電気電子)
キーワード：
薄膜成長、Mist CVD、In2O3
In₂O₃薄膜をMist CVD法により成膜し、純水ミストの混合による成長速度と膜厚分布の制御を試みた。純水の供給により膜厚が減少し、面内の膜厚均一性が向上したことから、成膜中の純水混合が成長制御と膜厚均一化に有効であることが示された。