講演情報
[8p-S202-3]ニューラルネットワークポテンシャルを用いた分子動力学法による化学機械研磨機構の解析
〇奥野 好成1 (1.株式会社レゾナック)
キーワード：
化学機械研磨、ニューラルネットワークポテンシャル、分子動力学法
半導体製造の前工程における重要な、水存在下のセリア砥粒でシリカ基板を研磨する化学的機械研磨について、ニューラルネットワークポテンシャルを用いた分子動力学計算によって分子レベルでの解析を実施した。水中でセリアとシリカが反応する複雑な機構を、仮想現実技術で解明した。シリカ表面の水酸基濃度の役割や、シリカ表面の形状による研磨速度の違いについても明らかにした。本結果はスラリーの改良に向けた示唆を提供する。