[9a-N302-1~11] 15.7 結晶評価，不純物・結晶欠陥

9:30 〜 9:45

[9a-N302-3] Si(100)および(110)ウェーハの急速熱酸化で形成される表面酸化膜の密度

〇早川 兼¹、須藤 治生¹、仙田 剛士¹、松村 尚¹ (1.グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社)

キーワード：

急速熱処理、酸化膜密度、X線反射率法