セッション詳細
[9a-N302-1~11]15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥
2025年9月9日(火) 9:00 〜 12:00
N302 (共通講義棟北)
[9a-N302-1]<110>方位CZ-Si単結晶の転位挙動に対する結晶径変動の影響
〇松村 尚1,2、斉藤 広幸1、太子 敏則2 (1.グローバルウェーハズ・ジャパン、2.信大工)
[9a-N302-2]Si(110)ウェーハ高温熱処理後表面形状の傾斜角度依存性
〇仙田 剛士1、早川 兼1、須藤 治生1、松村 尚1 (1.グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社)
[9a-N302-3]Si(100)および(110)ウェーハの急速熱酸化で形成される表面酸化膜の密度
〇早川 兼1、須藤 治生1、仙田 剛士1、松村 尚1 (1.グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社)
[9a-N302-4]Si (100) および (110) ウェーハの急速熱酸化におけるボイド欠陥消滅挙動
〇須藤 治生1、早川 兼1、仙田 剛士1、松村 尚1 (1.グローバルウェーハズ)
[9a-N302-5]遺伝的アルゴリズムを用いたRTPウェーハ内の空孔-酸素複合体の安定原子構造探索
〇岩城 浩也1,2、別宮 響1、須藤 治生2、早川 兼2、神山 栄治2、末岡 浩治3 (1.岡山県大院情報系工、2.グローバルウェーハズ・ジャパン(株)、3.岡山県大情報工)
[9a-N302-6]シリコン{311}欠陥内におけるドーパント原子安定性の第一原理解析
〇神山 栄治1,2、永井 勇太1、泉妻 宏冶1,2、末岡 浩治2 (1.グローバルウェーハズ・ジャパン㈱、2.岡山県立大情報工)
[9a-N302-7]CH2F+注入シリコンエピタキシャルウェーハのフッ素拡散挙動
〇廣瀬 諒1、門野 武1、小林 弘治1、永友 翔1、栗田 一成1 (1.株式会社SUMCO)
[9a-N302-8]パワーデバイス用CZ-Si結晶のSb蒸発による抵抗制御技術の開発
〇宝来 正隆2,3、鳴嶋 康人1、藤原 俊幸2、杉村 渉2、下山 学2、小野 敏昭2、柿本 浩一3、西澤 伸一3 (1.SUMCO TECHXIV、2.SUMCO、3.九大応力研)
[9a-N302-9]CZ-Si結晶成長におけるドーパント蒸発による抵抗率制御
〇八明 択実1、齋藤 渉2、西澤 伸一2 (1.九大総合理工、2.九大応力研)
[9a-N302-10]分子動力学によるSixGe1-x結晶の熱伝導度解析
〇柿本 浩一1 (1.東北大金研)
[9a-N302-11]結晶と融液の透明度がOCCC法におけるGa2O3単結晶成長時の
炉内温度分布に与える影響
〇柿本 浩一1、富田 健稔2、Vladimir Kochurikhin2、北原 正典2、鎌田 圭1,2、中野 智3、姚 永昭4、赤岩 和明5、吉川 彰1,2 (1.東北大金研、2.㈱C & A、3.九大 応力研、4.三重大、5.鳥取大)