[9a-N401-1~11] CS.9 6.5 表面物理・真空、7.5 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェアセッション

9:30 〜 9:45

[9a-N401-3] Ni(111)表面上の単層h-BN膜におけるCOとH₂Oの反応性

〇安藤 雅晃¹、Carraro Giovanni²、Savio Letizia²、Bracco Gianangelo^2,3,5、Rocca Mario^2,3、岡田 美智雄^1,4、Vattuone Luca^2,3,5 (1.阪大院理、2.IMEM-CNR Genoa Unit、3.DIFI University of Genoa、4.阪大放射線機構、5.INAF Genoa Unit)

キーワード：

六方晶窒化ホウ素、単層膜、Ⅹ線光電子分光法

単層薄膜は2次元触媒や酸化に対する金属の保護膜として注目されている。六方晶窒化ホウ素(h-BN)はグラフェンに似た構造を持ちながら高い熱的安定性を有している。本研究では、Ni(111)面上にh-BNを作製し、COとH₂Oを室温、-140℃それぞれの吸着反応を分析した。その結果、生成時に酸素や欠陥があるとき、-140℃で水を曝露すると700℃まで安定に存在する酸化ホウ素が形成されることがわかった。