[9a-P06-1~3] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[9a-P06-2] サブテラヘルツ帯BIC共振器における形状誤差の影響評価

〇近藤 裕佑¹、柴田 一範²、村上 修一¹ (1.大阪技術研、2.大阪大学)

キーワード：

DRIE、二層フォトニック結晶共振器、MEMS