2025年第86回応用物理学会秋季学術講演会
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一般セッション(ポスター講演)13 半導体：13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[9a-P06-1~3]13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2025年9月9日(火) 9:30 〜 11:30
P06 (体育館)

[9a-P06-1]石英のDeep RIEにおけるArガス添加によるエッチピットの抑制

〇吉田 一樹1、山田 直也1、矢作 徹1、加藤 睦人1 (1.山形工技セ)
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[9a-P06-2]サブテラヘルツ帯BIC共振器における形状誤差の影響評価

〇近藤 裕佑1、柴田 一範2、村上 修一1 (1.大阪技術研、2.大阪大学)
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[9a-P06-3]カーボン系材料を1％KOH水溶液に混合させた場合の単結晶Siのエッチング特性

〇木村 謙吾1、田中 浩1 (1.愛知工業大工)
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