[9p-N101-1~10] 【一般公開】先端ロジック半導体とその周辺技術

15:05 〜 15:35

[9p-N101-5] Beyond 2nm世代向けのエピ成長およびシリコン基板の最新動向

〇小椋 厚志^1,2、臼田 宏冶² (1.明治大学　理工、2.明治大学　MREL)

キーワード：

SiGeエピ、シリコン(110)基板