セッション詳細
[9p-N101-1~10]【一般公開】先端ロジック半導体とその周辺技術
2025年9月9日(火) 13:30 〜 17:25
N101 (共通講義棟北)
松川 貴(産総研)、 園田 賢一郎(ルネサス)、 多田 宗弘(慶応大)
近年、生成AIや高性能コンピューティングの発展により、ロジック半導体の高度化・高集積化が加速しています。これに伴い、設計・製造技術に加え、材料・装置・冷却・パッケージング・信号伝送といった周辺技術への要求も急速に高まっています。本シンポジウムでは、次世代ロジック半導体に向けた技術課題やブレークスルー、周辺技術の最新動向について、産学の第一線で活躍する専門家と共に議論を深めます。
[9p-N101-6]半導体製造プロセス開発を加速するAI技術
〇沓掛 健太朗1、宇治原 徹1、関 翔太2、高石 将輝2、永倉 大樹3、谷川 公一3、永井 勇太4 (1.名大、2.アイクリスタル、3.ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング、4.グローバルウェーハズ・ジャパン)
[9p-N101-7]HZO強誘電体メモリと新原理コンピューティングへの展開
〇トープラサートポン カシディット1、劉 振泓1、伊藤 広恭1、高烜 赫東1、趙 成謹1、蔡 作成1、名幸 瑛心1、閔 信義1、鈴木 陸央1、中根 了昌1、竹中 充1、高木 信一1,2 (1.東大院工、2.帝京大先端研)