講演情報
[9p-N101-6]半導体製造プロセス開発を加速するAI技術
〇沓掛 健太朗1、宇治原 徹1、関 翔太2、高石 将輝2、永倉 大樹3、谷川 公一3、永井 勇太4 (1.名大、2.アイクリスタル、3.ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング、4.グローバルウェーハズ・ジャパン)
キーワード：
半導体、機械学習、最適化
本研究では、Siウェーハ製造プロセスからCMOSイメージセンサー製造プロセスまでのデジタルツインを仮想空間上に構築して最適化することで、プロセス全体での最適化を実現した。これにより従来のシミュレーションを用いた最適化と比較して、要する時間を約1/1000に短縮した。本成果は、企業横断での最適化の必要性を実証するものであり、またCMOSイメージセンサーのみならず様々な半導体材料・デバイスに共通して展開可能な方法である。