[9p-N103-1~12] 軟Ｘ線多層膜が拓く短波長Beyond EUVリソグラフィー技術

17:35 〜 17:50奨励賞エントリー

[9p-N103-12] Beyond EUV露光向けMo系多層膜のシミュレーション

〇早勢 直紀¹、山川 進二¹、原田 哲男¹ (1.兵庫県立大高度研)

キーワード：

Beyond EUV、多層膜、成膜技術

半導体デバイスのさらなる微細化に対応する次世代技術として、約6.7 nmの光波長を用いた露光技術であるBeyond EUV (BEUV)の実現が期待されている。本報告では、BEUV露光の要素技術である多層膜ミラー設計に向けてMo化合物を用いた多層膜の光学特性を計算より示し、成膜プロセスにおける表面ラフネスや光散乱強度に関する要因を推定する。