2025年第86回応用物理学会秋季学術講演会
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シンポジウム(口頭講演)シンポジウム：軟Ｘ線多層膜が拓く短波長Beyond EUVリソグラフィー技術

[9p-N103-1~12]軟Ｘ線多層膜が拓く短波長Beyond EUVリソグラフィー技術

2025年9月9日(火) 13:30 〜 17:50
N103 (共通講義棟北)
13:30 〜 14:00

[9p-N103-1]EUVリソグラフィーと軟X線多層膜

〇木下 博雄1 (1.兵庫県立大学)
14:00 〜 14:30英語発表

[9p-N103-2]Recent Advance in Development of Efficient and Stable Cr/Sc-based Multilayer Mirrors for Applications in the Water Window Soft X-ray Range

〇Evgueni Meltchakov1, Franck Delmotte1 (1.Univ. Paris-Saclay)
14:30 〜 15:00

[9p-N103-3]その場計測量子エリプソメトリーとイオンスパッタ法によるBEUV反射多層膜鏡開発

〇江島 丈雄1,2 (1.東北大SRIS、2.東北大多元研)
15:10 〜 15:40

[9p-N103-4]NTT-ATにおけるEUV/X線多層膜の開発

〇市丸 智1、畑山 雅俊1 (1.NTT-AT)
15:40 〜 15:55

[9p-N103-5]レーザー生成プラズマEUV光源の高効率化

〇東口 武史1 (1.宇都宮大工)
15:55 〜 16:10

[9p-N103-6]レーザー生成B-EUV〜水の窓軟X線光源

〇東口 武史1 (1.宇都宮大工)
16:10 〜 16:25

[9p-N103-7]液体リチウムシートターゲットによる狭帯域EUV光源の開発

〇本田 能之1、岩本 文男1、永井 伸治1、山本 隼也2、早坂 信太朗2、矢澤 隼斗2、杉浦 使2、空本 龍弥2、林﨑 規託3、滑川 雅広4、作山 弘幸4、東口 武史2 (1.ギガフォトン、2.宇都宮大学、3.東京科学大学、4.助川電気工業)
16:35 〜 16:50英語発表

[9p-N103-8]Effect of Thickness graded Mo/Si multilayer Mirror on Pupil Transmission Uniformity of EUV Lithography Optics

〇(PC)Maidul Haque Sekh1, Shun Uji1, Mitsunori Toyoda1 (1.Tokyo Polytechnic University, Atsugi, Japan)
16:50 〜 17:05

[9p-N103-9]斜入射aplanatic対物系に適した400eV領域用多層膜ミラーの開発

脇 俊太郎1、原田 哲男2、〇豊田 光紀1 (1.東京工芸大工、2.兵庫県立大高度研)
17:05 〜 17:20

[9p-N103-10]ニュースバル放射光施設におけるBEUV評価技術の開発

〇原田 哲男1、棚木 智也1、早勢 直紀1、山川 進二1 (1.兵県大)
17:20 〜 17:35

[9p-N103-11]BEUV多層膜用のホウ素膜の光学定数測定

〇(M1C)棚木 智也1、早勢 直紀1、山川 進二1、原田 哲男1 (1.兵庫県大工)
17:35 〜 17:50奨励賞エントリー

[9p-N103-12]Beyond EUV露光向けMo系多層膜のシミュレーション

〇早勢 直紀1、山川 進二1、原田 哲男1 (1.兵庫県立大高度研)
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