セッション詳細
[9p-N103-1~12]軟X線多層膜が拓く短波長Beyond EUVリソグラフィー技術
2025年9月9日(火) 13:30 〜 17:50
N103 (共通講義棟北)
豊田 光紀(東京工芸大)、 原田 哲男(兵庫県立大)、 大東 琢治(高エネルギー加速器研究機構)
[9p-N103-2]Recent Advance in Development of Efficient and Stable Cr/Sc-based Multilayer Mirrors for Applications in the Water Window Soft X-ray Range
〇Evgueni Meltchakov1, Franck Delmotte1 (1.Univ. Paris-Saclay)
[9p-N103-7]液体リチウムシートターゲットによる狭帯域EUV光源の開発
〇本田 能之1、岩本 文男1、永井 伸治1、山本 隼也2、早坂 信太朗2、矢澤 隼斗2、杉浦 使2、空本 龍弥2、林﨑 規託3、滑川 雅広4、作山 弘幸4、東口 武史2 (1.ギガフォトン、2.宇都宮大学、3.東京科学大学、4.助川電気工業)
[9p-N103-8]Effect of Thickness graded Mo/Si multilayer Mirror on Pupil Transmission Uniformity of EUV Lithography Optics
〇(PC)Maidul Haque Sekh1, Shun Uji1, Mitsunori Toyoda1 (1.Tokyo Polytechnic University, Atsugi, Japan)