講演情報
[9p-N103-3]その場計測量子エリプソメトリーとイオンスパッタ法によるBEUV反射多層膜鏡開発
〇江島 丈雄1,2 (1.東北大SRIS、2.東北大多元研)
キーワード：
BEUV、反射多層膜鏡
次世代半導体露光機の動作波長6.x nmで動作するBEUV反射多層膜鏡の反射率低下の要因を評価した結果、設計値の±5%以内で各成膜パラメータを制御する必要があることが判明した。これはEUV反射多層膜鏡より厳しい条件であり、主に成膜技術の向上が課題となる。本研究ではこのBEUV反射多層膜鏡の成膜方法として、その場計測量子エリプソメトリー法とイオンスパッタ法の組み合わせによる膜厚・界面粗さ・周期長の精密制御を提案する。