[9p-N105-1~21] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

15:45 〜 16:00奨励賞エントリー

[9p-N105-10] 高圧を活用したルチル型GeO₂薄膜のガラス基板上への作製

〇柴田 敬司¹、川村 史朗²、宮川 仁²、遊佐 斉²、山田 直臣¹ (1.中部大院工、2.物質・材料研究機構)

キーワード：

ルチル型GeO2、高圧、結晶化