講演情報

[9p-N323-9]硫黄プラズマを用いた反応性スパッタリングによるウルツ鉱型ZnO1-xSx薄膜の作製

〇(D)茂田井 大輝1、鈴木 一誓1、野上 大一1、反保 衆志2、永井 武彦2、寺田 教男2、青野 裕美3、小俣 孝久1 (1.東北大、2.産総研、3.鹿児島大)

キーワード:

反応性スパッタリング、硫黄プラズマ、固溶体