講演情報
[9p-N324-4]TiN膜高速生成用真空アーク蒸着システムにおける放電時の圧力変化
〇越智 将伍1、大根田 みらの1、滝川 浩史1、杉田 博昭2、服部 貴大2、儀間 弘樹2 (1.豊橋技術科学大学、2.オーエスジー（株）)
キーワード：
TiN、真空アーク蒸着
TiN膜の成膜に用いられる真空アーク蒸着法の産業応用に向け，我々はコイル陽極付きHR-FADを用い，導入ガス流量と圧力変動，および成膜時の放電安定性との関係を詳細に調査した。その結果，流量が一定値を超えると圧力が一時的に低下するが，排気速度の調整により設定値への復帰が可能であること，一方で流量が低すぎる場合は放電が不安定となり成膜が困難であることが分かった。