講演情報

[9p-N401-5]極薄a-Si/Ni/SOI積層構造の急速熱処理によるSiO2上単結晶NiSi2の形成

〇今井 友貴1、谷田 駿1、山本 裕司2,1、田岡 紀之3、牧原 克典1,2 (1.名大院工、2.IHP、3.愛工大工)

キーワード:

シリサイド、単結晶、SOI