2025年第86回応用物理学会秋季学術講演会
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[9p-P07-1]
Si(001)上Ge薄膜のc-Al
2
O
3
基板への転写プロセス検討
〇田中 真裕
1
、山本 裕司
2
、柴山 茂久
1
、坂下 満男
1
、黒澤 昌志
1
、中塚 理
1,3
、Wen Wei-Chen
2
(1.名大院工、2.IHP-Leibniz Institute for High Performance Microelectronics、3.名大未来研)
キーワード:
半導体
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