セッション詳細
[9p-P07-1~8]15.5 IV族結晶，IV-IV族混晶
2025年9月9日(火) 13:30 〜 15:30
P07 (体育館)
[9p-P07-1]Si(001)上Ge薄膜のc-Al2O3基板への転写プロセス検討
〇田中 真裕1、山本 裕司2、柴山 茂久1、坂下 満男1、黒澤 昌志1、中塚 理1,3、Wen Wei-Chen2 (1.名大院工、2.IHP-Leibniz Institute for High Performance Microelectronics、3.名大未来研)
[9p-P07-2]Ge，Si 中のSnと原子空孔の熱平衡濃度に与える応力の影響
〇小澤 幸司1、竹田 伊織1、別宮 響1、濱本 雄治2、末岡 浩治2 (1.岡山県立大院情報系工、2.岡山県立大情報工)
[9p-P07-3]Al–Ge/Si構造の熱処理で形成するSiGe薄膜の近赤外透過偏光顕微鏡による結晶欠陥評価
〇(M1)岩田 茉奈実1、勝部 涼司1、今井 友貴1、鈴木 紹太2、南山 偉明2、ダムリン マルワン2,3、宇佐美 徳隆1,4,5 (1.名大院工、2.東洋アルミ、3.阪大院工、4.名大未来機構、5.名大未来研)
[9p-P07-4]SiO2上に形成したNi-Silicideナノシートによる水素センシング
〇渡邉 諒太1、服部 直輝1、牧原 克典2、一野 祐亮1、清家 善之1、森 竜雄1、田岡 紀之1 (1.愛知工大、2.名大院工)
[9p-P07-5]SiGe/Ge多重量子井戸の周期増加による発光強度増大
〇萩原 智大1、相川 茉由1、菊岡 柊也1、山田 道洋1、浜屋 宏平2,3,4、澤野 憲太郎1 (1.東京都市大、2.阪大基礎工、3.阪大基礎工 CSRN、4.阪大 OTRI)
[9p-P07-6]サブミクロン細線加工したSiO2上Siスパッタ膜の結晶化における自己停止熱酸化プロセスの適用
〇(M2)内田 和仁1、Piedra-Lorenzana Jose A.1、赤井 大輔1、飛沢 健1、石川 靖彦1 (1.豊橋技科大)
[9p-P07-7]パターニング法によるｐ型歪みSiGe/Ge(111)の形成と電気伝導特性
〇石橋 脩悟1、武井 爽一郎1、相川 茉由1、溝口 稜太1、澤野 憲太郎1 (1.東京都市大学)
[9p-P07-8]ブリッジ構造によって導入された一軸および二軸歪がGeの価電子帯及び内殻準位の結合エネルギーに及ぼす影響のHAXPES評価
〇野平 博司1、石川 陸1、桐原 芳治1、川合 遼一1、五島 一樹1、臼井 亮祐1、井上 貴裕1、西原 達平2、澤野 憲太郎1 (1.東京都市大学、2.高輝度光科学研究センター)