講演情報
[9p-P07-6]サブミクロン細線加工したSiO2上Siスパッタ膜の結晶化における自己停止熱酸化プロセスの適用
〇(M2)内田 和仁1、Piedra-Lorenzana Jose A.1、赤井 大輔1、飛沢 健1、石川 靖彦1 (1.豊橋技科大)
キーワード：
スパッタシリコン膜、細線、自己停止酸化
シリコンフォトニクスにおいて、光通信波長帯における光導波路などパッシブデバイス材料にSiが利用されている。一方、受光器にはエピタキシャル成長によるGe単結晶薄膜が利用されている。本研究では、SiやGeの光機能や光デバイス技術を開拓する観点で、SiO2上にスパッタ堆積した非晶質Si/Ge薄膜の結晶化を検討している。今回は、サブミクロン細線加工したSiスパッタ膜に対して、自己停止熱酸化プロセスを適用した結晶化を試みた。