講演情報
[9p-P09-11]深振動マグネトロンスパッタリングにおける発光分光分析を用いた生成Ti粒子のイオン化率の解析
〇横山 英佐1,2、中川 悠幹2、小林 宏輝2、西宮 信夫2、實方 真臣2、戸名 正英3、山本 宏晃3、塚本 恵三3、冨宅 喜代一4、大下 慶次郎5、美齊津 文典6 (1.サレジオ高専、2.東京工芸大工、3.（株）アヤボ、4.神戸大、5.北海道教育大、6.東北大院理)
キーワード：
深振動マグネトロンスパッタリング、発光分光分析、ガス希薄化現象
深振動マグネトロンスパッタリング（DOMS）は成膜速度を補償し優れたアークフリー特性を有するイオン化スパッタリング方式として期待されている。本研究では、設計したDOMS制御パルスを用いてAr雰囲気下でTiターゲットに対してスパッタリングを行い、生成したプラズマに対してOESの時間発展計測を行った。放電・発光の遅延時間からガス密度分布の解析を行い、ガス希薄化現象が生成スパッタ粒子のイオン化率に及ぼす影響を検討した。