講演情報
[9p-P09-17]低圧誘導結合型プラズマより照射された酸素原子の基材表面分布の計測
〇(M2)南谷 将平1、竹田 圭吾1 (1.名城大理工)
キーワード：
酸素原子、表面反応、シリコン基板
本研究では誘導結合型プラズマ(ICP)により供給される酸素原子が常にシリコン基板に照射される条件下において、真空紫外吸収分光法（VUVAS）[2]を用いて基板上(垂直方向)の酸素原子の絶対密度分布を計測した。本実験はフォトレジスト除去や酸化膜形成など、半導体ウエハプロセスへの応用を想定したものであり、プラズマ中の粒子と材料界面におけるの表面反応機構の解明の一助となる知見を提供する。