講演情報
[9p-P09-9]ターゲット利用率の向上のための回転式マグネトロンRFスパッタプラズマの生成
〇(M1)古森 正斗1、大津 康徳1 (1.佐大院理工)
キーワード：
プラズマ、スパッタリング
近年、DX化の進展により、データセンターの増設に伴い、半導体デバイスの需要が年々増加している。半導体デバイス内の薄膜合成法として、マグネトロンスパッタ法が広く利用されている。しかしながら、材料ターゲットが有効に利用できておらず、材料ターゲット利用率が 20％~30％と低いという課題がある。そこで、本研究では、従来の磁石固定型から磁石回転型を採用し、ターゲット利用率を向上させることを目的としている。