セッション詳細
[7a-N221-1~10]3.6 レーザープロセシング
2025年9月7日(日) 9:00 〜 11:45
N221 (共通講義棟北)
[7a-N221-1]有機結晶の液中レーザー粉砕過程における分子構造の影響
〇阿部 晃汰1、神村 共住1,2、杉山 輝樹3、安國 良平1 (1.大阪工大、2.阪大レーザー研、3.國立陽明交通大)
[7a-N221-2]パルスレーザーアブレーション法でパイプとガスの流れを用いて堆積させたSi球状ナノ粒子のパイプ径依存性
〇花田 裕月1、青木 珠緒1、梅津 郁朗1 (1.甲南大)
[7a-N221-3]レーザー加熱グラファイト合成のアルコール溶媒種依存性
〇藤原 英樹1、加茂 雅也1、松坂 美月2、鹿嶋 倖太郎2、海住 英生2,3、平井 健二4、雲林院 宏4 (1.北海学園大工、2.慶大理工、3.慶大スピンセンター、4.北大電子研)
[7a-N221-4]有機ナノ結晶の光学特性における表面吸着分子の影響
〇(M2)増田 直人1、神村 共住1,2、安國 良平1 (1.大阪工大、2.阪大レーザー研)
[7a-N221-5]Optical Properties and Thin Film Processing of Manganese Phthalocyanine Nanoparticles Prepared by Laser Ablation in Liquid
〇Yuchun Wang1, Hiroyuki Wada1 (1.Science Tokyo)
[7a-N221-6]アルコール中の CaO コロイドへのレーザー照射によるゲル生成メカニズムの解析
〇(M1C)藤田 航輝1、髙盛 陽生1、大石 恵理子1、辻 剛志1、新 大軌1、飯田 拡基1、白鳥 英雄1、奥村 泰志2、菊池 裕嗣2 (1.島根大院自然科学、2.九大先導研)
[7a-N221-7]全固体 193nm 光源を用いたシリコンウェハのアブレーション閾値評価
〇玉手 光次1、小池 陸生1、本杉 宇晃1、近田 修1、三浦 泰祐1 (1.ギガフォトン株式会社)
[7a-N221-8]ナノ秒パルスレーザー除染におけるレーザーパラメータの最適化と 飛散粉塵粒径評価の試み
〇(M2)山本 恵輔1、小菅 敦2、中嶋 隆1 (1.京大、2.JAEA(敦賀))
[7a-N221-9]炭素繊維強化プラスチックに対するレーザーアブレーションによりレーザー推力の波長依存特性
〇篠崎 琢也1、春日 博1、月花 智博1、山根 秀公1、津野 克彦1、永田 豊1、黒瀬 範子1、斎藤 徳人1、小川 貴代1、和田 智之1 (1.理研)
[7a-N221-10]核融合応用のためのレーザー表面改質タングステンと銅の無欠陥接合
〇(PC)上原 日和1,2、楊 浩天2、鈴木 啓太3、田中 智基4、藤田 貴弘4、安原 亮1,2、遠堂 敬史3、川口 晴生1,2、鈴木 千尋1,2、宮川 鈴衣奈1,5、能登 裕之1,2 (1.核融合研、2.総研大、3.北大、4.日本タングステン(株)、5.名工大)