セッション詳細
[8a-N221-1~12]3.6 レーザープロセシング
2025年9月8日(月) 9:00 〜 12:15
N221 (共通講義棟北)
[8a-N221-1]ホウケイ酸ガラスにおけるフェムト秒レーザーアブレーション過程解明に向けた光学系の構築と反射率イメージング計測
〇仲子 宙輝1、富田 卓朗1 (1.徳島大院)
[8a-N221-2]フェムト秒レーザ照射時の電子温度のシングルショット計測
〇福井 智大1、鄭 勤如1、雲 誠太朗1、郭 展熙1、手嶋 勇太1、服部 隼也1、張 艶明1、伊藤 佑介1 (1.東大院工)
[8a-N221-3]尿素結晶のフェムト秒レーザー誘起二次核形成の干渉観測
〇釣 優香1,2、丸山 美帆子3、塚本 勝男4、吉川 洋史3、細川 陽一郎1,2 (1.奈良先端大物質、2.奈良先端大メディルクス、3.阪大院工、4.東北大院理)
[8a-N221-4]レーザー誘起前方転写における光吸収パターンの影響
〇爲本 龍汰1、小出 照瑛1、山根 啓作1、戸田 泰則1、森田 隆二1 (1.北大院工)
[8a-N221-5]シングルショットGHzバーストモード超短ベッセルパルスによるガラス基板の超高アスペクト比直接穴あけ加工
〇宮原 勇兵1,2、君塚 元一1,2、田中 源基1、栁沼 涼祐1,2、川端 祥太2,3、小幡 孝太郎2、岡田 俊範1、杉岡 幸次2 (1.エンプラス研究所、2.理研 光量子、3.東京農工大)
[8a-N221-6]レーザー微細加工による圧電特性の向上
〇寺島 日海1、宋 俊東2,3、柴尾 直樹2、小野 晋吾1、春本 高志3、史 蹟3、中嶋 宇史2、岡村 総一郎2 (1.名工大、2.理科大、3.科学大)
[8a-N221-7]レーザーアブレーション法によるonion-like carbonで被膜されたSiCナノ微粒子の作製および特性評価
〇横田 葵1、宮島 顕祐1 (1.東理大院先進工)
[8a-N221-8]液中レーザーアブレーションを用いたEu賦活ストロンチウムアルミネート緑色蛍光体微粒子の作製
〇高嶋 優斗1、中村 俊博1 (1.法政大院理工)
[8a-N221-9]光熱材料を用いたポリイミド基板上へのレーザー誘起グラフェン形成の基礎的評価
〇寺本 匡希1、Lee Do Hoon1、竹井 邦晴1 (1.北大情)
[8a-N221-10]レーザー駆動バブルによるAuナノロッド/SiO2複合体の連続描画
〇中川 優大1、皿井 優輝1、西山 宏昭1 (1.山形大院理工)
[8a-N221-11]フェムト秒レーザー二光子励起マイクロバブルの位置安定性の評価
〇熊谷 温人1、青山 昌央1、鈴木 紗和1、鈴木 快2、西山 宏昭1 (1.山形大院理工、2.山形大工)
[8a-N221-12]加工閾値以下の超短パルスレーザー照射によるPEEKの結晶化度変化
〇高橋 実佑1、高林 圭佑2、遠藤 翼2、小林 洋平2、富田 卓朗3、山口 誠1 (1.秋田大学、2.東大物性研、3.徳島大学)