[14p-K403-1~13] 6.2 カーボン系薄膜

16:30 〜 16:45

[14p-K403-13] Bイオン注入による高圧高温合成Ib型ダイヤモンドの電気伝導制御

〇関 裕平¹、今村 海哉¹、星野 靖¹ (1.神奈川大理)

キーワード：

イオン注入、Hall効果、ダイヤモンド半導体