K101 (講義棟)
K102 (講義棟)
K103 (講義棟)
K201 (講義棟)
K202 (講義棟)
K204 (講義棟)
K205 (講義棟)
K209 (講義棟)
K301 (講義棟)
K302 (講義棟)
K303 (講義棟)
K304 (講義棟)
K305 (講義棟)
K306 (講義棟)
K307 (講義棟)
K308 (講義棟)
K309 (講義棟)
K310 (講義棟)
K401 (講義棟)
K402 (講義棟)
K403 (講義棟)
K404 (講義棟)
K405 (講義棟)
K406 (講義棟)
K501 (講義棟)
K502 (講義棟)
K503 (講義棟)
K504 (講義棟)
K505 (講義棟)
K506 (講義棟)
K507 (講義棟)
Y1311 (13号館)
P01 (森戸記念体育館)
P02 (森戸記念体育館)
9:00
10:00
11:00
12:00
13:00
14:00
15:00
16:00
17:00
一般セッション(口頭講演)(9:30 〜 11:45)
[17a-K102-1~8]

17.3 層状物質

根岸 良太(東洋大)
17 ナノカーボン・二次元材料:17.3 層状物質
一般セッション(口頭講演)(9:00 〜 11:45)
[17a-K201-1~10]

2.2 発生装置・検出器開発・計測技術

黒澤 俊介(東北大)、 富田 英生(名大)
2 放射線:2.2 発生装置・検出器開発・計測技術
一般セッション(口頭講演)(9:30 〜 11:45)
[17a-K202-1~9]

13.3 絶縁膜技術

渡邉 孝信(早大)
13 半導体:13.3 絶縁膜技術
一般セッション(口頭講演)(13:00 〜 14:45)
[17p-K202-1~7]

13.3 絶縁膜技術

女屋 崇(東大)
13 半導体:13.3 絶縁膜技術
一般セッション(口頭講演)(10:00 〜 12:00)
[17a-K209-1~8]

1.5 計測技術・計測標準

安田 正美(産総研)
1 応用物理学一般:1.5 計測技術・計測標準
一般セッション(口頭講演)(13:30 〜 15:45)
[17p-K209-1~9]

1.5 計測技術・計測標準

石渡 尚也(産総研)
1 応用物理学一般:1.5 計測技術・計測標準
一般セッション(口頭講演)(9:00 〜 12:00)
[17a-K303-1~11]

8.1 プラズマ生成・診断

堤 隆嘉(名大)
8 プラズマエレクトロニクス:8.1 プラズマ生成・診断
一般セッション(口頭講演)(13:30 〜 16:00)
[17p-K303-1~8]

8.1 プラズマ生成・診断

竹田 圭吾(名城大)
8 プラズマエレクトロニクス:8.1 プラズマ生成・診断
一般セッション(口頭講演)(9:00 〜 12:00)
[17a-K304-1~10]

8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

北嶋 武(防衛大)、 針谷 達(岐阜大)
8 プラズマエレクトロニクス:8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理
一般セッション(口頭講演)(13:30 〜 15:45)
[17p-K304-1~8]

8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

谷出 敦(SCREEN)、 蕭 世男(名大)
8 プラズマエレクトロニクス:8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理
一般セッション(口頭講演)(13:00 〜 17:00)
[17p-K307-1~15]

9.5 新機能材料・新物性

宇佐美 雄生(九工大)、 栗岡 智行(東京科学大学)
9 応用物性:9.5 新機能材料・新物性
一般セッション(口頭講演)(10:00 〜 12:30)
[17a-K309-1~9]

3.12 半導体光デバイス

荒井 昌和(宮崎大)、 下村 和彦(上智大)
3 光・フォトニクス:3.12 半導体光デバイス
一般セッション(口頭講演)(9:30 〜 12:00)
[17a-K310-1~9]

15.1 バルク結晶成長

横田 有為(東北大)
15 結晶工学:15.1 バルク結晶成長
一般セッション(口頭講演)(9:00 〜 12:00)
[17a-K401-1~11]

15.4 III-V族窒化物結晶

関口 寛人(豊橋技科大)、 上岡 義弘(東ソー株式会社)
15 結晶工学:15.4 III-V族窒化物結晶
一般セッション(口頭講演)(9:00 〜 11:30)
[17a-K402-1~9]

12.6 ナノバイオテクノロジー

手老 龍吾(豊橋技科大)、 星野 隆行(名大)
12 有機分子・バイオエレクトロニクス:12.6 ナノバイオテクノロジー
一般セッション(口頭講演)(13:00 〜 16:00)
[17p-K402-1~11]

12.6 ナノバイオテクノロジー

住友 弘二(兵庫県立大)、 松木 伸行(神奈川大)
12 有機分子・バイオエレクトロニクス:12.6 ナノバイオテクノロジー
一般セッション(口頭講演)(9:00 〜 11:30)
[17a-K403-1~9]

12.7 医用工学・バイオチップ

木野 久志(九大)、 郭 媛元(東北大)
12 有機分子・バイオエレクトロニクス:12.7 医用工学・バイオチップ
一般セッション(口頭講演)(13:00 〜 16:45)
[17p-K403-1~13]

12.7 医用工学・バイオチップ

高橋 一浩(豊橋技科大)、 関口 寛人(豊橋技科大)、 崔 容俊(豊橋技科大)
12 有機分子・バイオエレクトロニクス:12.7 医用工学・バイオチップ
一般セッション(口頭講演)(13:00 〜 16:30)
[17p-K404-1~13]

12.4 有機EL・トランジスタ

三成 剛生(物材機構)、 渡邉 峻一郎(理研)
12 有機分子・バイオエレクトロニクス:12.4 有機EL・トランジスタ
一般セッション(口頭講演)(13:00 〜 15:15)
[17p-K405-1~8]

12.5 有機・ハイブリッド太陽電池

白井 康裕(物材機構)、 チョン ミンアン(京大)
12 有機分子・バイオエレクトロニクス:12.5 有機・ハイブリッド太陽電池
一般セッション(口頭講演)(9:00 〜 11:45)
[17a-K405-1~9]

CS.6 タンデム太陽電池(12.5 有機・ハイブリッド太陽電池、13.9 化合物太陽電池、16.3 シリコン系太陽電池のコードシェア)

石河 泰明(青学大)、 増田 淳(新潟大)、 千葉 恭男(産総研)
CS コードシェアセッション:【CS.6】タンデム太陽電池(12.5 有機・ハイブリッド太陽電池、13.9 化合物太陽電池、16.3 シリコン系太陽電池のコードシェア)
一般セッション(口頭講演)(9:00 〜 11:30)
[17a-K406-1~9]

12.3 機能材料・萌芽的デバイス

伊東 良太(秋田県立大)、 久野 恭平(東京科学大学)
12 有機分子・バイオエレクトロニクス:12.3 機能材料・萌芽的デバイス
一般セッション(口頭講演)(13:00 〜 15:15)
[17p-K406-1~8]

12.3 機能材料・萌芽的デバイス

衛 慶碩(産総研)、 堀家 匠平(神戸大)
12 有機分子・バイオエレクトロニクス:12.3 機能材料・萌芽的デバイス
一般セッション(口頭講演)(9:30 〜 11:45)
[17a-K501-1~8]

6.3 酸化物エレクトロニクス

山原 弘靖(東大)
6 薄膜・表面:6.3 酸化物エレクトロニクス
一般セッション(口頭講演)(13:00 〜 15:30)
[17p-K501-1~9]

6.3 酸化物エレクトロニクス

井手 啓介(東工大)
6 薄膜・表面:6.3 酸化物エレクトロニクス
一般セッション(口頭講演)(10:00 〜 11:30)
[17a-K503-1~6]

6.6 プローブ顕微鏡

横田 泰之(理研)
6 薄膜・表面:6.6 プローブ顕微鏡
一般セッション(口頭講演)(13:00 〜 16:30)
[17p-K503-1~12]

6.6 プローブ顕微鏡

一井 崇(京大)、 杉本 宜昭(東大)
6 薄膜・表面:6.6 プローブ顕微鏡
一般セッション(口頭講演)(9:30 〜 11:00)
[17a-K504-1~6]

6.4 薄膜新材料

岡 大地(都立大)
6 薄膜・表面:6.4 薄膜新材料
一般セッション(口頭講演)(9:00 〜 11:30)
[17a-K505-1~9]

23.1 合同セッションN「インフォマティクス応用」

沓掛 健太朗(名大)、 知京 豊裕(物材機構)
23 合同セッションN「インフォマティクス応用」:23.1 合同セッションN「インフォマティクス応用」
一般セッション(口頭講演)(13:00 〜 16:30)
[17p-K505-1~13]

23.1 合同セッションN「インフォマティクス応用」

小嗣 真人(東理大)、 志賀 元紀(東北大)
23 合同セッションN「インフォマティクス応用」:23.1 合同セッションN「インフォマティクス応用」
一般セッション(口頭講演)(9:00 〜 12:00)
[17a-K506-1~11]

3.6 レーザープロセシング

長谷川 智士(宇都宮大)、 西山 宏昭(山形大)
3 光・フォトニクス:3.6 レーザープロセシング
一般セッション(口頭講演)(9:00 〜 10:45)
[17a-K507-1~5]

7.1 X線技術

米山 明男(九州シンクロトロン光研究センター )、 石野 雅彦(量研機構)
7 ビーム応用:7.1 X線技術
一般セッション(口頭講演)(13:00 〜 14:45)
[17p-K507-1~6]

7.3 微細パターン・微細構造形成技術

山本 治朗(日立)、 谷口 淳(東理大)
7 ビーム応用:7.3 微細パターン・微細構造形成技術
一般セッション(ポスター講演)(9:30 〜 11:30)
[17a-P01-1~29]

9 応用物性(ポスター)

9 応用物性:9 応用物性(ポスター)