[14p-P06-1~15] FS フォーカストセッション「AIエレクトロニクス」（ポスター）

[14p-P06-4] Cu含有PVAフィルムを用いた抵抗変化素子の作製と特性評価

〇(M1)岩澤 侑司¹、牧島 唯斗¹、中村 光我¹、小林 亮太¹、永井 裕己¹、相川 慎也¹ (1.工学院大工)

キーワード：

抵抗変化メモリ、ポリビニルアルコール、硫酸銅