講演情報
[15a-K207-2]歪みグラフェン量子ドットの形成と電子状態評価
田中 夏帆1、内田 祥汰2、杉山 宏一2、碇 智徳2、ビシコフスキー アントン1、〇田中 悟1 (1.九大院工、2.宇部高専)
キーワード:
グラフェン、量子ドット、擬磁場
SiC(0001)上のグラフェンバッファー層の水素インターカレーショ初期において、グラフェン量子ドットが形成される。界面構造の変化によりグラフェンには格子歪みが生じるため、電子は擬磁場の影響を受け電子状態(エネルギーギャップやランダウ準位)が変化する。ラマン分光およびSTM/STSにより、電子状態と歪み(ドットサイズ)の関係を調べた結果を報告する。