2025年第72回応用物理学会春季学術講演会
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18:45 〜 19:00
[15p-K301-12]
BN直接成膜技術を用いたGraphene/BN/Si積層構造平面型電子放出デバイスの開発
〇村上 勝久
1
、村田 博雅
1
、長尾 昌善
1
(1.産総研)
キーワード:
グラフェン、六方晶窒化ホウ素、電子放出
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