講演情報

[15p-K301-12]BN直接成膜技術を用いたGraphene/BN/Si積層構造平面型電子放出デバイスの開発

〇村上 勝久1、村田 博雅1、長尾 昌善1 (1.産総研)

キーワード:

グラフェン、六方晶窒化ホウ素、電子放出