[15p-K501-1~12] 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

15:00 〜 15:15

[15p-K501-8] SiGe混晶における低エネルギー局在フォノンモード強度とGeクラスターサイズの関係:分子動力学計算による解析

〇(M2)並木 大輔¹、内藤 真慈¹、平井 健太郎¹、横川 凌^2,3,4、小椋 厚志^5,4、渡邉 孝信¹ (1.早大理工、2.広大RISE、3.広大先進理工、4.明大MREL、5.明大理工)

キーワード：

フォノン