講演情報
[16p-K405-3]ベイズ最適化によるCsPbBr3薄膜の高速プロセス探索
〇(D)鈴木 静華1、佐藤 利弘2、鯉沼 秀臣3、加藤 隆二1、高橋 竜太1 (1.日大工、2.バキュームプロダクツ、3.SCT)
キーワード：
ハライドペロブスカイト、ベイズ最適化、薄膜
ハライドペロブスカイト材料は、直接遷移半導体であることから高い光の吸収係数を有し、太陽電池やレーザーへの応用が期待されている。本研究ではこの材料群の中でも緑色に強く発光するCsPbBr3に着目し、赤外レーザー堆積法というユニークな真空プロセスによって膜質を向上させることを試みた。この薄膜プロセスでは、“基板温度”や“堆積レート”、“圧力”の3つの重要合成パラメーターがあり、本研究では、機械学習のベイズ最適化を用いることにより、複数の実験パラメータを少ない実験回数で最適化することを試みた。その結果、20回の実験で結晶性が高いCsPbBr3薄膜の合成に成功し、さらにフォトキャリアの寿命はCsPbBr3単結晶における報告値に匹敵する特性であることが明らかになった。