[16p-K506-1~19] 3.6 レーザープロセシング

16:30 〜 16:45

[16p-K506-13] ピコ秒レーザー照射によるNi/SiC界面における周期的原子拡散とナノボイド形成

須藤 直也¹、関 宏都¹、川上 拓哉¹、高林 圭佑^2,3、遠藤 翼²、高島 祐介¹、永松 謙太郎¹、直井 美貴¹、山口 誠³、岡田 達也¹、小林 洋平²、〇富田 卓朗¹ (1.徳島大院創成、2.東大物性研、3.秋田大理工)

キーワード：

超短パルスレーザー、原子拡散、ナノボイド形成