セッション詳細
[16p-K206-1~8]11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長
2025年3月16日(日) 13:00 〜 15:15
K206 (講義棟)
尾崎 壽紀(関学大)、 寺西 亮(九大)
[16p-K206-1]データ転移を用いたベイズ最適化によるYBa2Cu3O7膜の効率的最適化
〇吉田 隆1、山崎 春太朗1、堀出 朋哉1、堀尾 恵一2、一野 祐亮3、松本 要1、一瀬 中4 (1.名大工、2.九工大、3.愛工大、4.電中研)
[16p-K206-2]自己配向LaNiO3を利用した Si 基板上へのc 軸配向YBa2Cu3O7-x 薄膜堆積(2)
〇(B)三田 祐1、川江 健1、中村 匤佑1、島村 一利1、河原 正美2、長尾 雅則3 (1.金沢大理工、2.(株)高純度化学研、3.山梨大院クリスタル研)
[16p-K206-3]Sr0.95La0.05TiO3およびLa1-xSrxMnO3を中間層に用いたREBCO線材の検討
〇(D)内田 翔1、池田 龍佑1、土井 俊哉1 (1.京大院エネ科)
[16p-K206-4]ハイエントロピー型REBa2Cu3O7-d 超伝導薄膜における照射耐性の向上
〇山下 愛智1、山中 慎大1、室井 孝太1、水口 佳一1、金子 卓人2、大野 直子2 (1.都立大、2.横国大)
[16p-K206-6]酸化物原料を用いたFF-MOD法共添加Y123薄膜の臨界電流特性
〇相楽 和豊1、堀口 佳吾1、元木 貴則1、下山 淳一1、吉原 健彦2、本田 元気2、小林 慎一2 (1.青学大理工、2.住友電工)
[16p-K206-7]RE123薄膜線材におけるキャリアドープ状態と超伝導特性の関係
〇下山 淳一1、堀口 佳吾1、相楽 和豊1、元木 貴則1、吉原 健彦2、本田 元気2、小林 慎一2 (1.青学大理工、2.住友電工)