2026年第73回応用物理学会春季学術講演会

13 半導体：13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

一般セッション(口頭講演)

[15a-S4_203-1~11]13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2026年3月15日(日) 9:00 〜 12:00

S4_203 (南4号館)

座長：曽根 正人(東京科学大)、 米谷 玲皇(東大)

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一般セッション(口頭講演)

[15p-S4_203-1~16]13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2026年3月15日(日) 14:00 〜 18:15

S4_203 (南4号館)

座長：岡田 竜弥(琉球大)、 藤井 知(沖縄高専)

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一般セッション(ポスター講演)

[16a-PA4-1~2]13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2026年3月16日(月) 9:30 〜 11:00

PA4 (アリーナ (1F))

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一般セッション(口頭講演)

[17a-S2_201-1~13]13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2026年3月17日(火) 9:00 〜 12:45

S2_201 (南2号館)

座長：栗岡 智行(東京科学大)、 今井 友貴(名大)

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