講演情報
[3B06]次世代EUVリソグラフィーに向けた有機スズ含有極性変化レジストの放射線化学とそのカウンターアニオンが系に与える影響
*橋本 康平1、室屋 裕佐1、古澤 孝弘1、町田 康平2、榎本 智至2、Bilal Naqvi3、Danilo De Simone3 (1. 阪大産研、2. 東洋合成工業、3. imec)
キーワード：
極端紫外光リソグラフィー、放射線化学、微細加工、有機スズ、カウンターアニオン
半導体産業ではEUVの利用が本格的に始まり、ピッチ寸法がシングルナノに到達しようとしている。この領域では光子揺らぎの影響がますます見過ごせなくなるため、新たな設計指針に基づいたレジストが必要となる。我々は、EUV光子吸収断面積が高い有機スズを含有したレジストの開発を進めており、パルスラジオリシス法やガンマラジオリシス法によりその放射線化学反応の解明を試みた。加えて、レジストのカウンターアニオンが反応やリソグラフィー性能に与える影響を検証した。