講演情報

[P1-15]散乱法による両連続マイクロエマルション-ラメラ液晶転移の観測と
界面膜の曲げ弾性に注目した構造評価

*西山 仁智1、鈴木 陽太1、新間 優子2、佐藤 高彰1 (1. 信州大学院総合理工研究科繊維学専攻化学・材料分野 (日本)、2. 株式会社アルビオン (日本))

キーワード:

両連続マイクロエマルション、ラメラ液晶、小角・広角X線散乱

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