日本化学会 第104春季年会 (2024)
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14:00 〜 14:10
日本語
[A1444-1pm-06]
超臨界水熱法による酸化ニッケルナノ結晶の合成と薄膜形成法の検討
○川瀬 智暉
1
、押切 友也
1,2
、笘居 高明
1,3
、新家 寛正
1
、中川 勝
1
(1. 東北大多元研、2. 北大電子研、3. 東北大学際研)
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キーワード:
酸化ニッケル,p型半導体,超臨界水熱合成,ナノ結晶,薄膜形成
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