日本化学会 第104春季年会 (2024)
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13:50 〜 14:00
日本語
[E1121-2pm-06]
シクロデキストリン被覆型シアニン色素のホスト及びゲストの修飾による物性制御
○張 恵敏
1
、増井 洋一
1
、正井 宏
1
、寺尾 潤
1
(1. 東大院総合)
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キーワード:
シアニン色素,近赤外光吸収,ロタキサン,光酸化耐性,一重項酸素
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