[OS2-2-2] 制振デバイス

11:00 〜 11:20

[OS2-2-2-03] 高磁気応答性ゲル開発とその応用

〇那須野 洋¹、川﨑 暢也¹、小川 昂実¹、金森 廉太郎²、川合 巳佳²、三俣 哲² (1. 株式会社タイカ、2. 国立大学法人新潟大学)

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