日本金属学会2025年秋期(第177回)講演大会
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[P366]
ラジカル水素反応性赤外レーザー蒸着法によるSr
1-x
Na
x
H
2-y
の薄膜合成
*森 史弥
1
、河原 幸生
1
、福士 英里香
1
、大口 裕之
1
(1. 芝浦工大(院生))
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キーワード:
ヒドリド伝導、水素化物薄膜
本研究では、Wフィラメントの長さを約2倍に延長して従来よりもラジカル水素が高濃度に存在する環境で成膜を実施した。また、赤外レーザーを二本備えた装置を新規に開発してSrH2薄膜へのNaドープに挑戦した。
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