セッション詳細
[IS]IS2 Recent Trends and Future Perspectives of Semiconductor Materials
2025年9月19日(金) 9:00 〜 11:20
A会場(工学部オープンホール)
座長:三浦 誠司(北海道大学)、齊藤 雄太(東北大学)、池田 賢一(北海道大学)
※表示の講演時間には質疑応答時間も含みます。
(質疑応答時間5分、基調講演と招待講演は5~10分)
(質疑応答時間5分、基調講演と招待講演は5~10分)
[IS2.1]Oxide Semiconductor Transistor Technologies for LSIApplications
*Masaharu Kobayashi1 (1. The University of Tokyo)
[IS2.2]Grain-engineered Co Alloys for Scaled Interconnects
*KIYOUNG LEE1 (1. Department of Materials Science & Engineering, HONGIK UNIVERSITY, Seoul, Korea)
休憩
[IS2.3]Low dimensional nitride-based material system for neuromorphic computing
*Yi-Chia Chou1, Chang-Hsun Huang1, Chia-Yi Wu1, Wei-Chih Chen1 (1. National Taiwan University, Taipei, Taiwan)
[IS2.4]Nanostructured centrosymmetric semiconductors forferroelectric-like bulk photovoltaics
*Yun Liu1 (1. Australian National University)